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CuIn 스퍼터링 타겟 고순도 박막 Pvd 코팅 맞춤 제작

구리 인듐

간단한 설명:

범주

합금 스퍼터링 타겟

화학식

CuIn

구성

구리 인듐

청정

99.9%,99.95%,99.99%

모양

플레이트, 컬럼 타겟, 아크 음극, 맞춤형

생산 과정

진공 용해

사용 가능한 크기

L≤2000mm, W≤200mm


제품 상세 정보

제품 태그

구리 인듐 합금 스퍼터링 타겟은 진공 유도 용해를 통해 전통적으로 제작됩니다.인듐은 주기율표의 거의 모든 원소와 함께 다양한 유형의 인듐 합금을 형성할 수 있습니다.구리 인듐 합금은 이원 합금으로, 일반적으로 저융점 합금 및 브레이징 합금으로 사용됩니다.

구리 인듐 합금 스퍼터링 타겟은 우수한 전기 전도성과 정제된 입자 크기를 갖춘 PVD 코팅을 생산할 수 있다는 눈에 띄는 이점을 가지고 있습니다.이는 구리(Cu), 갈륨(Ga), 인듐(In) 및 셀레늄(Se)으로 구성된 CIGS 층의 형성에 도움이 될 수 있으며 구성 부분의 이름을 따서 명명되었습니다.CIGS는 광전변환 효율이 높아 태양전지 흡수층으로 활용하기 적합하다.

Rich Special Materials는 스퍼터링 타겟 제조를 전문으로 하며 고객의 사양에 따라 구리 인듐 스퍼터링 재료를 생산할 수 있습니다.자세한 내용은 당사에 문의하십시오.


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