RSM의 기술 컨설턴트가 원통형 및 평면형 마그네트론 스퍼터링 타겟의 장점을 공유해 드릴 것입니다.다른 마그네트론 스퍼터링 타겟과 비교하여 원통형 및 평면형 마그네트론 스퍼터링 타겟은 직사각형 평면 타겟의 코팅 균일성이 우수하다는 장점을 유지하며 다음 두 가지 방법을 통해 타겟의 활용도를 극대화할 수 있습니다.
(1) 타겟 표면의 환형 피트 두 그룹(4개)이 특정 깊이에 도달하면 타겟 코어(자석 부분)가 타겟 튜브를 기준으로 45° 회전할 수 있으므로 타겟 튜브의 다른 영역이 부식되지 않은 것을 사용할 수 있습니다.
(2) 원통형 및 평면형 마그네트론 스퍼터링 타겟의 타겟 코어를 회전 타겟 코어(스퍼터링 중에 타겟 코어가 회전함)로 설계하면 타겟 표면이 피트 없이 층별로 균일하게 스퍼터링될 수 있습니다.이때 타겟이 가장 효과적으로 사용되며 타겟의 활용률은 50% ~ 60%에 도달할 수 있습니다. 타겟 물질이 귀금속인 경우 이는 분명히 큰 의미가 있습니다.
동축 원통형 마그네트론 스퍼터링 타겟에 폴 슈가 있는 자석의 원리를 이용하여 말단 자기장의 문제를 해결함으로써 직사각형 평면 타겟을 원통형 및 평면형 마그네트론 스퍼터링 타겟으로 변형할 수 있으며, 타겟은 타겟의 활용률을 극대화할 수 있습니다. 경제적 이익을 향상시키기 위해 직사각형 평면 타겟의 우수한 코팅 균일성을 유지하면서.
게시 시간: 2022년 7월 4일