1. 마그네트론 스퍼터링 방법:
마그네트론 스퍼터링은 DC 스퍼터링, 중주파 스퍼터링, RF 스퍼터링으로 나눌 수 있습니다.
A. DC 스퍼터링 전원 공급 장치는 저렴하고 증착 필름의 밀도가 낮습니다.일반적으로 국내 광열 및 박막전지는 저에너지로 사용되며, 스퍼터링 타깃은 전도성 금속 타깃을 사용한다.
B. RF 스퍼터링 에너지는 높으며 스퍼터링 타겟은 비전도성 타겟 또는 전도성 타겟일 수 있습니다.
C. 중주파 스퍼터링 타겟은 세라믹 타겟 또는 금속 타겟일 수 있습니다.
2. 스퍼터링 타겟의 분류 및 응용
스퍼터링 타겟에는 다양한 종류가 있으며 타겟 분류 방법도 다릅니다.모양에 따라 긴 표적, 정사각형 표적, 둥근 표적으로 구분됩니다.구성에 따라 금속 타겟, 합금 타겟, 세라믹 복합 타겟으로 나눌 수 있습니다.다양한 응용 분야에 따라 반도체 관련 세라믹 타겟, 기록 매체 세라믹 타겟, 디스플레이 세라믹 타겟 등으로 나눌 수 있습니다. 스퍼터링 타겟은 주로 정보 저장 산업과 같은 전자 및 정보 산업에 사용됩니다.이 산업에서는 스퍼터링 타겟을 사용하여 관련 박막 제품(하드 디스크, 자기 헤드, 광 디스크 등)을 준비합니다.현재.정보 산업의 지속적인 발전으로 시장에서 기록 매체 세라믹 타겟에 대한 수요가 증가하고 있습니다.기록 매체 타겟의 연구 및 생산이 광범위한 관심의 초점이 되었습니다.
게시 시간: 2022년 5월 11일