현재 IC 산업에서 요구하는 거의 모든 고급 초고순도 금속 구리 타겟은 몇몇 대형 외국 다국적 기업이 독점하고 있습니다.국내 IC 산업에 필요한 초순수 구리 타겟은 모두 수입해야 하는데, 이는 가격이 비쌀 뿐만 아니라 수입 절차도 복잡하기 때문에 중국은 초고순도(6N) 구리 스퍼터링 타겟 개발 및 검증 개선이 시급하다. .초고순도(6N) 구리 스퍼터링 타겟 개발의 핵심 포인트와 어려움을 살펴보겠습니다.
1、초고순도 소재 개발
중국의 고순도 Cu, Al, Ta 금속 정제 기술은 선진국의 정제 기술과 거리가 멀다.현재 제공할 수 있는 대부분의 고순도 금속은 업계의 기존 모든 원소 분석 방법에 따라 스퍼터링 타겟용 집적 회로의 품질 요구 사항을 충족할 수 없습니다.대상의 포함 수가 너무 높거나 고르지 않게 분포되어 있습니다.스퍼터링 중에 웨이퍼에 입자가 형성되는 경우가 많아 상호 연결이 단락되거나 개방되어 필름 성능에 심각한 영향을 미칩니다.
2、구리 스퍼터링 타겟 준비 기술 개발
구리 스퍼터링 타겟 준비 기술의 개발은 주로 입자 크기, 방향 제어 및 균일성의 세 가지 측면에 중점을 둡니다.반도체 산업은 스퍼터링 타겟 및 원자재 증발에 대한 요구 사항이 가장 높습니다.이는 타겟의 표면 입자 크기 및 결정 방향 제어에 대한 매우 엄격한 요구 사항을 가지고 있습니다.대상의 입자 크기는 100으로 제어되어야 합니다.μ 따라서 아래의 M은 금속 타겟 개발에 있어 입자 크기 제어와 상관 분석 및 검출 수단이 매우 중요합니다.
3、분석 개발 및테스트 기술
타겟의 순도가 높다는 것은 불순물이 줄어든다는 것을 의미합니다.과거에는 불순물 판별을 위해 유도결합플라즈마(ICP)와 원자흡수분광법(Atomic Absorption Spectrometry)을 사용했으나, 최근에는 감도가 더 높은 글로우 방전 품질 분석(GDMS)이 점차 표준으로 채택되고 있다. 방법.잔류 저항비 RRR 방법은 전기 순도를 결정하는 데 주로 사용됩니다.그 결정 원리는 불순물의 전자적 분산 정도를 측정하여 모재의 순도를 평가하는 것입니다.상온과 극저온에서의 저항을 측정하는 것이므로 숫자를 취하는 것이 간단합니다.최근에는 금속의 본질을 탐구하기 위해 초고순도에 대한 연구가 매우 활발하다.이 경우 RRR 값이 순도를 평가하는 가장 좋은 방법입니다.
게시 시간: 2022년 5월 6일