스퍼터링 타겟(Sputtering Target)은 전자 기판에 합금이나 금속 산화물 등의 물질을 원자 수준에서 부착해 박막을 형성하는 전자재료이다.그 중 흑화막용 스퍼터링 타깃은 유기 EL이나 액정 패널에 막을 형성해 배선을 흑화시키고 TFT 배선의 가시광 반사율(낮은 반사율)을 낮추는 데 사용된다.스퍼터 타겟에는 다음과 같은 장점과 효과가 있습니다.기존 제품에 비해 각종 디스플레이의 높은 정밀도와 디자인 자유도 향상에 도움을 주며, 반도체 관련 제품의 배선 반사광으로 인한 노이즈 감소에 도움을 줍니다.
알루미늄 타겟의 장점과 효과:
(1) 배선 위에 알루미늄 타깃을 형성한 후 가시광선을 감소시킬 수 있다.
이전 제품에 비해 반사율이 낮습니다.
(2) 반응가스 없이 DC 스퍼터링이 가능하다.
기존 제품 대비 대형 기판의 필름 균질성을 구현하는데 도움이 됩니다.
(3) 막 형성 후, 배선과 함께 에칭 공정을 실시할 수 있다
고객사의 기존 Etching 공정에 맞춰 재료를 조정하고, 기존 공정 변경 없이 Wiring과 함께 Etch할 수 있습니다.또한, 고객사의 스퍼터링 상황에 따른 지원도 제공할 예정이다.
(4) 내열성, 내수성, 내알칼리성이 우수하다.
내수성, 내알칼리성 외에도 내열성도 높기 때문에 TFT 배선 가공 공정에서 필름 특성이 변하지 않습니다.
게시 시간: 2022년 8월 10일