목표에는 많은 효과가 있으며 시장 개발 공간이 넓습니다.여러 분야에서 매우 유용합니다.거의 모든 새로운 스퍼터링 장비는 강력한 자석을 사용하여 나선형 전자를 사용하여 타겟 주변의 아르곤 이온화를 가속화하여 타겟과 아르곤 이온 간의 충돌 확률을 높입니다.이제 진공 코팅에서 스퍼터링 타겟의 역할을 살펴보겠습니다.
스퍼터링 속도를 향상시킵니다.일반적으로 금속 코팅에는 DC 스퍼터링이 사용되는 반면, 비전도성 세라믹 자성 재료에는 RF AC 스퍼터링이 사용됩니다.기본 원리는 글로 방전을 사용하여 진공 상태에서 대상 표면의 아르곤(AR) 이온에 부딪히는 것이며, 플라즈마의 양이온은 가속되어 튀어 나온 물질로서 음극 표면으로 돌진하게 됩니다.이 충격으로 인해 타겟의 물질이 튀어나와 기판에 증착되어 필름을 형성하게 됩니다.
일반적으로 스퍼터링 공정에 의한 필름 코팅에는 몇 가지 특성이 있습니다. (1) 금속, 합금 또는 절연체를 필름 데이터로 만들 수 있습니다.
(2) 적절한 설정 조건 하에서, 다수의 무질서한 타겟으로부터 동일한 구성의 필름을 만들 수 있습니다.
(3) 방전 분위기에 산소나 기타 활성 가스를 첨가하여 타겟 물질과 가스 분자의 혼합물 또는 화합물을 생성할 수 있습니다.
(4) 목표 입력 전류 및 스퍼터링 시간을 제어할 수 있으며 고정밀도 막 두께를 쉽게 얻을 수 있습니다.
(5) 다른 공정에 비해 대면적 균일 필름 생산에 유리하다.
(6) 스퍼터링된 입자는 중력의 영향을 거의 받지 않으며 타겟과 기판의 위치를 자유롭게 배열할 수 있습니다.
게시 시간: 2022년 5월 17일