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타겟의 기능 및 사용법 소개

대상 제품에 대해 현재 응용 시장은 점점 더 넓어지고 있지만 여전히 일부 사용자는 대상의 사용에 대해 잘 이해하지 못하고 있습니다. RSM 기술 부서의 전문가가 이에 대해 자세히 소개하도록 하십시오.

https://www.rsmtarget.com/

  1. 마이크로일렉트로닉스

모든 응용 산업에서 반도체 산업은 타겟 스퍼터링 필름 품질에 대한 가장 까다로운 요구 사항을 가지고 있습니다.12인치(300Epistaxis)의 실리콘 웨이퍼가 생산되었습니다.인터커넥트의 폭이 감소하고 있습니다.실리콘 웨이퍼 제조업체는 타겟의 큰 크기, 고순도, 낮은 편석 및 미세한 입자를 요구하며, 이는 제조된 타겟의 더 나은 미세 구조를 요구합니다.

  2, 디스플레이

평판 디스플레이(FPD)는 수년 동안 음극선관(CRT) 기반 컴퓨터 모니터 및 TV 시장에 큰 영향을 미쳤으며 ITO 타겟 재료에 대한 기술 및 시장 수요도 주도할 것입니다.iTO 타겟에는 두 가지 종류가 있습니다.하나는 소결 후 나노미터 상태의 산화인듐과 산화주석 분말을 사용하는 것이고, 다른 하나는 인듐주석 합금 타겟을 사용하는 것이다.

  3. 보관

저장기술 측면에서 고밀도, 대용량 하드디스크의 개발에는 거대 릴럭턴스 필름 소재가 많이 필요하다.CoF~Cu 다층 복합막은 거대 릴럭턴스막의 구조로 널리 사용된다.자기 디스크에 필요한 TbFeCo 합금 타겟 재료는 아직 추가 개발 단계에 있습니다.TbFeCo로 제조된 자기 디스크는 저장 용량이 크고 수명이 길며 비접촉 반복 삭제가 가능한 특성을 가지고 있습니다.

  표적물질 개발:

다양한 유형의 스퍼터링 박막 재료가 반도체 집적 회로(VLSI), 광 디스크, 평면 디스플레이 및 공작물의 표면 코팅에 널리 사용되었습니다.1990년대 이후 스퍼터링 타겟 재료와 스퍼터링 기술의 동시 개발은 다양한 새로운 전자 부품 개발 요구를 크게 충족시켰습니다.


게시 시간: 2022년 8월 8일