실리콘 스퍼터링 타겟

일부 고객은 실리콘 스퍼터링 타겟에 대해 문의했습니다.이제 RSM 기술 부서의 동료들이 실리콘 스퍼터링 타겟을 분석해 드립니다.

실리콘 스퍼터링 타겟은 실리콘 잉곳에서 금속을 스퍼터링하여 만들어집니다.타겟은 전기도금, 스퍼터링, 증착 등 다양한 공정과 방법으로 제조할 수 있습니다.바람직한 실시예는 원하는 표면 조건을 달성하기 위해 추가적인 세정 및 에칭 프로세스를 추가로 제공한다.생산된 타겟은 반사율이 높고 거칠기가 500옹스트롬 미만이며 연소 속도가 상대적으로 빠릅니다.실리콘 타겟으로 제조된 필름은 입자 수가 적습니다.

실리콘 스퍼터링 타겟은 실리콘 기반 재료에 박막을 증착하는 데 사용됩니다.이는 디스플레이, 반도체, 광학, 광통신 및 유리 코팅 응용 분야에 일반적으로 사용됩니다.또한 첨단 부품을 에칭하는 데에도 적합합니다.N형 실리콘 스퍼터링 타겟은 다양한 목적으로 사용될 수 있습니다.전자, 태양전지, 반도체, 디스플레이 등 다양한 분야에 적용 가능합니다.

실리콘 스퍼터링 타겟은 표면에 재료를 증착하는 데 사용되는 스퍼터링 액세서리입니다.일반적으로 실리콘 원자로 구성됩니다.스퍼터링 공정에는 정확한 양의 재료가 필요하며 이는 큰 도전이 될 수 있습니다.이상적인 스퍼터링 장비를 사용하는 것이 실리콘 기반 부품을 만드는 유일한 방법입니다.스퍼터링 공정에는 실리콘 스퍼터링 타겟이 사용되지 않는다는 점은 주목할 가치가 있습니다.