타겟은 많은 분야에서 많은 기능과 폭넓은 응용을 가지고 있습니다.새로운 스퍼터링 장비는 거의 강력한 자석을 사용해 전자를 나선형으로 회전시켜 타겟 주변의 아르곤 이온화를 가속화시켜 타겟과 아르곤 이온 간의 충돌 확률을 높인다.
스퍼터링 속도를 높입니다.일반적으로 금속 코팅에는 DC 스퍼터링이 사용되고, 비전도성 세라믹 자성체에는 RF 통신 스퍼터링이 사용됩니다.기본 원리는 글로우 방전을 사용하여 진공 상태에서 타겟 표면의 아르곤(AR) 이온에 부딪히는 것이며, 플라즈마의 양이온은 가속되어 튀어 나온 물질로서 음극 표면으로 돌진하게 됩니다.이 충격으로 인해 타겟의 물질이 튀어나와 기판에 증착되어 필름을 형성하게 됩니다.
일반적으로 스퍼터링 공정을 이용한 필름 코팅에는 다음과 같은 몇 가지 특징이 있습니다.
(1) 금속, 합금, 절연체 등을 박막 데이터로 만들 수 있습니다.
(2) 적절한 설정 조건 하에서, 다수의 무질서한 타겟으로부터 동일한 구성의 필름을 만들 수 있습니다.
(3) 방전 분위기에 산소나 기타 활성 가스를 첨가하여 타겟 물질과 가스 분자의 혼합물 또는 화합물을 만들 수 있습니다.
(4) 목표 입력 전류 및 스퍼터링 시간을 제어할 수 있으며 고정밀도 막 두께를 쉽게 얻을 수 있습니다.
(5) 다른 영화 제작에 도움이 됩니다.
(6) 스퍼터링된 입자는 중력의 영향을 거의 받지 않으며 타겟과 기판을 자유롭게 정리할 수 있습니다.
게시 시간: 2022년 5월 24일