시장 수요가 증가함에 따라 점점 더 많은 유형의 스퍼터링 타겟이 지속적으로 업데이트됩니다.고객에게 익숙한 것도 있고, 낯선 것도 있습니다.이제 우리는 마그네트론 스퍼터링 타겟의 유형이 무엇인지 여러분과 공유하고 싶습니다.
스퍼터링 타겟에는 금속 스퍼터링 코팅 타겟, 합금 스퍼터링 코팅 타겟, 세라믹 스퍼터링 코팅 타겟, 붕화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 카바이드 세라믹 스퍼터링 타겟, 불화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 질화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 산화물 세라믹 타겟, 셀렌화물 세라믹 스퍼터링 타겟 등의 유형이 있습니다. , 규화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 황화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 텔루르화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 기타 세라믹 타겟, 크롬 도핑된 산화규소 세라믹 타겟(CR SiO), 인듐 인화물 타겟(INP), 납 비소 타겟(pbas), 인듐 비소 타겟(InAs ).
마그네트론 스퍼터링은 일반적으로 DC 스퍼터링과 RF 스퍼터링의 두 가지 유형으로 구분됩니다.DC 스퍼터링 장비의 원리는 간단하며, 금속 스퍼터링 시 속도도 빠릅니다.RF 스퍼터링이 널리 사용됩니다.전도성 데이터를 스퍼터링하는 것 외에도 비전도성 데이터를 스퍼터링할 수도 있습니다.동시에 스퍼터링 타겟도 반응성 스퍼터링을 수행하여 산화물, 질화물, 탄화물 등의 화합물 데이터를 준비합니다.RF 주파수가 증가하면 마이크로파 플라즈마 스퍼터링이 됩니다.현재 전자 사이클로트론 공명(ECR) 마이크로파 플라즈마 스퍼터링이 일반적으로 사용됩니다.
게시 시간: 2022년 5월 18일