스퍼터링 티타늄 합금 타겟과 티타늄 금속은 티타늄으로 구성되어 있으므로 정보는 거의 동일하지만 둘의 차이점은 주로 스퍼터링 티타늄 합금 타겟이 여러 가지 방법을 통해 티타늄 금속으로 만들어지며 티타늄은 자연적으로 발생한다는 것입니다. 티타늄 광석. 티타늄 합금 타겟은 다양한 직업 범주에서 널리 사용될 수 있습니다. 이제 베이징 richmat의 저자는 상황 사용 측면에서 몇 가지 일반적인 티타늄 합금 타겟을 요약하여 자세한 소개를 제공했습니다.
一、집적회로용 Ti 타겟
스퍼터링 티타늄 합금 타겟에 대한 요구 사항은 비집적 회로와 집적 회로 간에 다릅니다.일반적으로 집적 회로는 더 높은 순도, 더 작은 입자 크기 및 더 정확한 스케일 정확도와 같은 코팅 데이터에 대한 더 높은 요구 사항을 갖습니다. 집적 회로의 티타늄 타겟 순도는 99.995%보다 높으며 이는 비집적 방식에 사용되는 것보다 높습니다. 이는 티타늄 목표 요구 사항의 다양한 용도가 매우 다르다는 것을 나타냅니다.
2, 평판 디스플레이용 Ti 타겟
평판 디스플레이에 사용되는 티타늄 합금 타겟에는 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 전계 발광 디스플레이 및 전계 방출 디스플레이가 포함됩니다. 평면 디스플레이의 박막은 스퍼터링 형성 방식이며, Al, Cu, Ti 및 Mo는 평판 디스플레이의 주요 금속 스퍼터링 타겟입니다. 디스플레이. 평판 디스플레이용 티타늄 합금 타겟의 순도는 일반적으로 99.9% 이상입니다.
3、장식재료용 Ti타겟
고순도 티타늄 합금 타겟 재료는 공기 내식성이 뛰어나고 공기 중에서 장기간 사용해도 색상이 변하지 않으며 티타늄의 원래 색상과 인간의 접촉이 알레르기가 없는지 및 기타 우수한 특성을 보장합니다.따라서 고순도 티타늄은 장식 재료로도 사용할 수 있으며 최근에는 팔찌, 시계, 안경 및 기타 장식품과 같은 티타늄 순도가 5N 수준에 도달했습니다.
넷째, 초고진공 펌핑 시스템용 Ti 타겟
화학적으로 활성인 금속인 티타늄은 고온에서 많은 원소 및 화합물과 반응할 수 있습니다.고순도 티타늄 합금 타겟은 활성 가스(예: O2, N2, CO, CO2, 650°C 이상의 수증기)에 대한 강력한 흡착 능력을 가지며, 펌프 벽에서 증발하는 Ti 필름은 흡착 성능이 높은 표면을 형성할 수 있습니다. .이러한 특성으로 인해 Ti는 초고진공 가스 추출 시스템에서 게터로 널리 사용됩니다. 펌프, 스퍼터링 이온 펌프 등을 개선하는 데 사용하면 스퍼터링 이온 펌프의 최종 작동 압력을 10-9PA만큼 낮게 만들 수 있습니다.
게시 시간: 2022년 4월 25일