코팅된 타겟의 얇은 막은 특수한 재질의 형태입니다.특정 두께 방향에서는 스케일이 매우 작아서 현미경으로 측정할 수 있는 양입니다.또한 필름 두께의 모양과 인터페이스로 인해 재료 연속성이 종료되어 필름 데이터와 대상 데이터가 서로 다른 공통 특성을 가지게 됩니다. 그리고 대상은 주로 마그네트론 스퍼터링 코팅을 사용하는 것이므로 Beijing Richmat의 편집자는 우리에게 이해를 제공할 것입니다. 스퍼터링 코팅의 원리와 기술.
一、스퍼터링 코팅의 원리
스퍼터링 코팅 기술은 이온 쉘링 타겟 모양을 사용하는 것으로, 타겟 원자가 스퍼터링으로 알려진 현상에 부딪히게 됩니다.기판 표면에 증착된 원자를 스퍼터링 코팅이라고 합니다. 일반적으로 가스 이온화는 가스 방전에 의해 생성되며, 양이온은 전기장의 작용으로 음극 타겟을 고속으로 폭격하여 원자나 분자를 공격합니다. 음극 타겟과 기판 표면으로 날아가 필름으로 증착됩니다. 간단히 말해서 스퍼터링 코팅은 저압 불활성 가스 글로 방전을 사용하여 이온을 생성합니다.
일반적으로 스퍼터링 필름 도금 장비는 진공 방전실에 두 개의 전극이 장착되어 있으며, 음극 타겟은 코팅 데이터로 구성됩니다.진공 챔버에는 0.1~10Pa 압력의 아르곤 가스가 채워져 있습니다.글로우 방전은 1~3kV dc의 음의 고전압 또는 13.56mhz의 rf 전압의 작용으로 음극에서 발생합니다. 아르곤 이온은 타겟 표면에 충돌하여 스퍼터링된 타겟 원자가 기판에 축적되도록 합니다.
2、스퍼터링 코팅 기술 특성
1. 빠른 스태킹 속도
고속 마그네트론 스퍼터링 전극과 전통적인 2단 스퍼터링 전극의 차이점은 자석이 타겟 아래에 배열되어 폐쇄형 불균일 자기장이 타겟 표면에 발생한다는 점입니다. 전자에 대한 로렌츠 힘은 중심을 향합니다. 이종 자기장의.포커싱 효과로 인해 전자가 덜 빠져나갑니다.이종 자기장은 타겟 표면을 돌며 이종 자기장에 포획된 2차 전자가 가스 분자와 반복적으로 충돌하여 가스 분자의 높은 전환율을 향상시킵니다. 따라서 고속 마그네트론 스퍼터링은 전력 소모가 적지만, 이상적인 방전 특성으로 우수한 코팅 효율을 얻을 수 있습니다.
2, 기판 온도가 낮다
저온 스퍼터링이라고도 알려진 고속 마그네트론 스퍼터링.그 이유는 이 장치가 서로 직진하는 전자기장 공간에서 방전을 사용하기 때문입니다.타겟 외부에서 발생하는 2차 전자는 서로 내부에 있습니다.직선 전자기장의 작용으로 표적 표면 근처에 결합되어 원형 롤링 라인의 활주로를 따라 이동하며 가스 분자에 반복적으로 부딪혀 가스 분자를 이온화합니다. 함께 전자 자체는 다음을 통해 점차적으로 에너지를 잃습니다. 기판 근처의 타겟 표면에서 빠져나오기 전에 에너지가 거의 완전히 손실될 때까지 반복적으로 범프합니다.전자의 에너지가 매우 낮기 때문에 타겟의 온도가 너무 높게 올라가지 않습니다.이는 극저온화를 완료하는 일반 다이오드 샷의 고에너지 전자 충격으로 인한 기판 온도 상승을 상쇄하기에 충분합니다.
3, 광범위한 멤브레인 구조
진공증착법과 주입증착법으로 얻은 박막의 구조는 벌크 고체를 얇게 하여 얻은 것과는 상당히 다르다.3차원적으로 본질적으로 동일한 구조로 분류되는 일반적으로 존재하는 고체와 달리, 기체상에서 증착된 필름은 이종 구조로 분류됩니다. 얇은 필름은 원주형이며 주사전자현미경으로 조사할 수 있습니다.필름의 원주형 성장은 기판의 원래 볼록한 표면과 기판의 두드러진 부분에 있는 몇 가지 그림자로 인해 발생합니다.그러나 기둥의 모양과 크기는 기판 온도, 적층된 원자의 표면 분산, 불순물 원자의 매립 및 기판 표면에 대한 입사 원자의 입사각으로 인해 상당히 다릅니다.과도한 온도 범위에서 얇은 막은 스퍼터링 막의 독특한 구조인 미세 기둥 모양의 결정으로 구성된 섬유상 구조, 고밀도를 갖습니다.
스퍼터링 압력과 필름 적층 속도도 필름 구조에 영향을 미칩니다.가스 분자는 기판 표면에서 원자의 분산을 억제하는 효과가 있으므로 높은 스퍼터링 압력의 효과는 모델의 기판 온도 저하에 적합합니다.따라서 높은 스퍼터링 압력에서 미세한 입자를 포함하는 다공성 필름을 얻을 수 있습니다.이 작은 입자 크기의 필름은 윤활, 내마모성, 표면 경화 및 기타 기계적 용도에 적합합니다.
4、구성을 균등하게 배열
성분의 증기압이 다르거나 가열하면 차이가 나기 때문에 진공증착법으로 코팅하기 어려운 화합물, 혼합물, 합금 등. 스퍼터링 코팅 방법은 원자의 타겟 표면 층을 층별로 만드는 것입니다. 기판에, 이런 의미에서 더 완벽한 영화 제작 기술입니다.스퍼터링을 통해 산업용 코팅 생산에 모든 종류의 재료를 사용할 수 있습니다.
게시 시간: 2022년 4월 29일