폴리실리콘은 중요한 스퍼터링 타겟 재료입니다.마그네트론 스퍼터링 방법을 사용하여 SiO2 및 기타 박막을 제조하면 매트릭스 재료의 광학적, 유전성 및 내식성이 향상되어 터치 스크린, 광학 및 기타 산업에서 널리 사용됩니다.
긴 결정체를 주조하는 공정은 잉곳로의 열장에 있는 히터의 온도와 단열재의 방열을 정밀하게 제어하여 액체실리콘이 아래에서 위로 점진적으로 방향성 응고를 실현하는 공정이며, 응고 긴 결정 속도는 0.8~1.2cm/h입니다.동시에, 방향성 응고 과정에서 실리콘 재료 중 금속 원소의 분리 효과를 실현할 수 있고, 대부분의 금속 원소를 정제할 수 있으며, 균일한 다결정 실리콘 입자 구조를 형성할 수 있습니다.
또한, 주조 폴리실리콘은 실리콘 용융물의 억셉터 불순물 농도를 변경하기 위해 생산 공정에서 의도적으로 도핑되어야 합니다.업계에서 p형 주조 폴리실리콘의 주요 도펀트는 실리콘 붕소 마스터 합금으로, 붕소 함량은 약 0.025%입니다.도핑량은 실리콘 웨이퍼의 목표 저항률에 따라 결정됩니다.최적의 저항률은 0.02 ~ 0.05 Ω · cm이고 해당 붕소 농도는 약 2 × 1014cm-3입니다. 그러나 실리콘 내 붕소의 편석 계수는 0.8로 방향성 응고 과정에서 특정 편석 효과를 나타냅니다. 즉, 붕소 원소는 잉곳의 수직 방향으로 경사지게 분포하며, 잉곳의 바닥에서 상부로 갈수록 저항률이 점차 감소합니다.
게시 시간: 2022년 7월 26일