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AlTa 스퍼터링 타겟 고순도 박막 PVD 코팅 맞춤 제작

알루미늄-탄탈륨

간단한 설명:

범주

합금 스퍼터링 타겟

화학식

알타

구성

알루미늄-탄탈륨

청정

99.9%,99.95%,99.99%

모양

플레이트, 컬럼 타겟, 아크 음극, 맞춤형

생산 과정

진공 용해, PM

사용 가능한 크기

L 200mm, W 200mm 이하


제품 상세 정보

제품 태그

타겟은 알루미늄과 탄탈륨 분말을 혼합하거나 진공 용해 후 전체 밀도로 압축하여 준비됩니다.이렇게 압축된 재료는 선택적으로 소결된 다음 원하는 목표 모양으로 형성됩니다.

알루미늄 탄탈륨 스퍼터링 타겟은 고순도, 균질한 미세 구조 및 우수한 전도성을 가지고 있습니다.이는 평판 디스플레이 산업의 박막 형성에 널리 사용됩니다.알루미늄 탄탈륨을 첨가하면 고성능 티타늄 합금을 생산하여 고온 적합성을 향상시킬 수도 있습니다.

Al-Ta 합금의 불순물 함량

구성

콘텐츠%)

Ta

Fe

Si

C

O

알타60

55.0~65.0

≤0.05

≤0.02

≤0.01

≤0.05

알타70

65.0~75.0

≤0.05

≤0.02

≤0.01

≤0.05

Rich Special Materials는 스퍼터링 타겟 제조를 전문으로 하며 고객의 사양에 따라 알루미늄 탄탈륨 스퍼터링 재료를 생산할 수 있습니다.당사의 제품은 우수한 기계적 특성, 균질한 구조, 분리, 기공 또는 균열이 없는 광택 표면을 특징으로 합니다.자세한 내용은 당사에 문의하십시오.


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