NiTa 스퍼터링 타겟 고순도 박막 Pvd 코팅 맞춤 제작

니켈 탄탈룸 스퍼터링 타겟은 진공 용융 또는 분말 야금 공정을 통해 제조됩니다.순도가 높고 미세구조가 균질합니다.

니켈 탄탈륨 스퍼터링 타겟은 항공우주, 항공기, 항법 산업에서 광범위하게 사용됩니다.고온 표면 반응성에 대한 우수한 저항성은 3000°C의 높은 용융 온도를 갖는 합금에 존재하는 상당한 양의 탄탈륨에서 비롯됩니다.알루미늄, 이트륨, 크로늄은 일반적으로 특성을 향상시키기 위해 첨가됩니다.

Rich Special Materials는 스퍼터링 타겟 제조를 전문으로 하며 고객의 사양에 따라 니켈 탄탈륨 스퍼터링 재료를 생산할 수 있습니다.자세한 내용은 당사에 문의하십시오.